Mask layout designer
英伟达半导体(深圳)有限公司
- 公司行业:电子技术/半导体/集成电路
职位信息
- 发布日期:2012-08-29
- 工作地点:上海
- 招聘人数:10
- 学历要求:本科
- 职位类别:集成电路IC设计/应用工程师 电子技术研发工程师
职位描述
Responsibilities:
- Perform full-custom digital IC mask layout in 20nm and below CMOS processes
- Main Projects include Memories and Standard cells
- Verification include all aspects of mask requirements, such as DRC/LVS, RC extraction, EM/IR and various requirements for special circuits
- Layout data generation, maintain and quality control.
Minimum Qualifications:
- BS or above in Electronics, Microelectronics or related fields
- Basic knowledge of semiconductor physics and mask layout design
- Good working knowledge of Unix required
- Good command of written and spoken English
- Experience of using common industry standard tools likes Virtuoso, Hercules/Calibre(plus)
- Rich imagination in tri-dimensional graphics---(plus)
工作职责:
- 完成全定制数字电路掩膜设计在20nm及以下CMOS工艺
- 主要计划包含存储单元设计和标注单元库设计
- 掩膜验证包含全部传统验证部分如基本规则检查,逻辑连接检查,参数提取,电迁移,电压降, 以及各种针对不同电路模块特别的检查
- 掩膜数据的产生维护以及质量控制
基本要求:
- 本科及以上学历,微电子或相关专业
- 基础半导体物理及相关掩膜设计知识
- 良好的unix使用能力
- 良好的英语读写能力
- 使用过业界常用设计工具例如Virtuoso、Calibre、Hercules(加分项)
- 具有丰富的三维图形想象能力(加分项)