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珠海立之亿新材料有限公司专业从事 CMP 抛光液的研发、生产、销售及技术服务，致力于高精尖抛光领域，特别是集成电路芯片的CMP抛光。公司拥有一批高素质的研发团队，在多个领域拥有自主知识究应验，同时与国内多个高校进行产学研合作，不断提高我们产品的质量。公司的纳米氧化铈产品有着粒径分布均匀、分散性好、抛光效率快、抛光选择比可精准调控等特点，产品在集成电路芯片制程领域STI 层的 CMP 抛光以及光掩膜抛光中显示出了卓越的性能优势。此外，公司正研发纳米氧化铝基、纳米二氧化硅基等 CMP 抛光液产品，公司布局的 CMP 抛光液产品系列将贯穿整个集成电路芯片（包括硅基半导体以及第三代半导体）制造过程。公司除了布局集成电路芯片制造 CMP 产品以外，在其他超精密加工领域也开发出了多款产品。半导体级的纳米氧化铈产品的衍生品、伴生产品在精密光学领域的抛光中也得到广泛的应用，在军工球罩、激光晶片加工、以及各种军用、民用光学组建的精密抛光上替代了环球、富吉米等进口产品，产品已为各大光学加工公司稳定供货。此外，微米、亚微米氧化铈、氧化铝和二氧化硅产品，在红外晶体、激光晶体、以及精密陶瓷基板的超精密抛光上的应用，也已经达到进口产品水平，产品在福建、西南等地区也得到了众多客户的认可，逐渐替代日本、法国等进口产品。公司生产严格按照相关标准层层把控，为客户提供性能优越、质量稳定的产品。我们力争成为中国半导体 CMP 抛光液材料的领军企业，助力超精密加工产品国产化，为客户创造价值，与客户共赢未来。